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等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過(guò)程。該過(guò)程是由於于激發(fā)離子與材料的碰撞而發(fā)生的，無(wú)需使用任何液體化學(xué)藥品或蝕刻劑即可將其除去。
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